關(guān)鍵詞:umac 位置比較 飛行同步 上海光源
摘要:針對(duì)上海光源先進(jìn)實(shí)驗(yàn)方法中要求的微秒級(jí)同步控制精度問(wèn)題,設(shè)計(jì)并實(shí)現(xiàn)了飛行掃描下的運(yùn)動(dòng)控制與數(shù)據(jù)采集系統(tǒng)。系統(tǒng)應(yīng)用基于Power UMAC控制器和自行研制的五相驅(qū)動(dòng)器控制步進(jìn)電機(jī)運(yùn)動(dòng),以及EPICS平臺(tái)下應(yīng)用電流計(jì)采集光電二極管讀數(shù),實(shí)現(xiàn)了步進(jìn)電機(jī)掃描過(guò)程中與數(shù)據(jù)采集系統(tǒng)的精確同步。SSRF測(cè)試線(xiàn)站在線(xiàn)測(cè)試結(jié)果表明,測(cè)量得到的出射光搖擺曲線(xiàn)的半高寬與步進(jìn)掃描測(cè)試結(jié)果的誤差約為0.17%。飛行掃描同步精度達(dá)到亞微秒級(jí),滿(mǎn)足先進(jìn)實(shí)驗(yàn)方法的要求。
核電子學(xué)與探測(cè)技術(shù)雜志要求:
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