無(wú)掩模光刻技術(shù)研究
關(guān)鍵詞：無(wú)掩模光刻 掃描電子束光刻 波帶片陣列光刻 掩模版
摘要：介紹了無(wú)掩模光刻技術(shù)的現(xiàn)狀和存在的問(wèn)題，并對(duì)幾種常見(jiàn)的無(wú)掩模光刻技術(shù)進(jìn)行了詳細(xì)的對(duì)比分析。研究表明，掃描電子柬光刻具有極高的分辨率，但是生產(chǎn)效率較低；波帶片陣列光刻技術(shù)已經(jīng)在理論和實(shí)驗(yàn)上取得了廣泛的成果，在保持無(wú)掩模光刻技術(shù)高分辨力的同時(shí)，對(duì)電子束的低效率將是一種補(bǔ)充，是一種很有潛力的用于制作掩模版的光刻技術(shù)。
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