衍射光學(xué)元件的掃描刻蝕深度在線檢測(cè)
關(guān)鍵詞：刻蝕深度 在線檢測(cè) 掃描離子束刻蝕 等厚干涉 衍射光學(xué)元件
摘要：基于楔形光學(xué)平板的等厚干涉原理，提出了一種透射衍射光學(xué)元件掃描離子束刻蝕深度的在線檢測(cè)方法，用一塊與被刻蝕光學(xué)元件材料相同的楔形薄片作為陪片，在刻蝕過(guò)程中將其遮擋一半，利用陪片等厚條紋的錯(cuò)位去測(cè)量其刻蝕深度，從而間接檢測(cè)出被刻蝕光學(xué)元件的刻蝕深度。在KZ-400大型離子束刻蝕裝置上建立了這種在線檢測(cè)裝置。多次實(shí)驗(yàn)表明，在線檢測(cè)結(jié)果同臺(tái)階儀的測(cè)量結(jié)果基本吻合，二者相差不超過(guò)10nm。本檢測(cè)方法能夠可靠、準(zhǔn)確地用來(lái)確定刻蝕終點(diǎn)，已經(jīng)成功應(yīng)用于位相型Ronchi光柵等大口徑位相衍射光學(xué)元件的刻蝕制作。本方法還可以用于對(duì)其他透明材料的微結(jié)構(gòu)進(jìn)行掃描刻蝕深度在線檢測(cè)。
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