藍(lán)寶石磁流變化學(xué)機(jī)械拋光工藝研究
關(guān)鍵詞：流變拋光 藍(lán)寶石 化學(xué)機(jī)械拋光 表面粗糙度 去除率
摘要：針對(duì)超光滑平面藍(lán)寶石襯底片存在亞表層損傷的問(wèn)題,文中利用磁流變拋光技術(shù)進(jìn)行藍(lán)寶石襯底片拋光以滿足現(xiàn)有生產(chǎn)需要,研究了磁流變拋光中拋光壓力、拋光盤轉(zhuǎn)速、工件盤轉(zhuǎn)速及拋光液溫度等工藝參數(shù)對(duì)C向藍(lán)寶石襯底片表面粗糙度和去除率的影響。采用正交實(shí)驗(yàn)方法獲得了一組最佳工藝參數(shù)為:拋光壓力為25kg,拋光盤轉(zhuǎn)速為40r·min^-1,工件盤轉(zhuǎn)速為20r·min^-1,拋光液溫度為38℃。研究結(jié)果表明:藍(lán)寶石拋光后最優(yōu)表面粗糙度Ra為0.31nm,去除率達(dá)到2.68μm·h^-1。
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